ઉચ્ચ શુદ્ધતા 99.99% થુલિયમ ox કસાઈડ સીએએસ નંબર 12036-44-1

ટૂંકા વર્ણન:

ઉત્પાદન: થુલિયમ ox કસાઈડ

સૂત્ર: ટીએમ 2 ઓ 3

સીએએસ નંબર: 12036-44-1

લાક્ષણિકતાઓ: સફેદ સહેજ લીલોતરી પાવડર, પાણીમાં અદ્રાવ્ય, એસિડમાં દ્રાવ્ય.

શુદ્ધતા/સ્પષ્ટીકરણ: 3 એન -6 એન (ટીએમ 2 ઓ 3/આરઇઓ ≥ 99.9%-99.9999%)

વપરાશ: મુખ્યત્વે ફ્લોરોસન્ટ સામગ્રી, લેસર સામગ્રી, ગ્લાસ સિરામિક એડિટિવ્સ, વગેરે બનાવવા માટે વપરાય છે.

અમને ઇમેઇલ મોકલો

ઉત્પાદન વિગત

ઉત્પાદન ટ tag ગ્સ

સંક્ષિપ્ત પરિચય

ઉત્પાદન -નામ	થ્યુલીયમ ઓક્સાઇડ
ક casસ	12036-44-1
MF	Tm2o3
શુદ્ધતા	99.9%-99.9999%
પરમાણુ વજન	385.88
ઘનતા	8.6 ગ્રામ/સે.મી.
બજ ચલાવવું	2341 ° સે
Boભીનો મુદ્દો	3945 ℃
દેખાવ	સફેદ પાવડર
દ્રાવ્યતા	પાણીમાં અદ્રાવ્ય, મજબૂત ખનિજ એસિડ્સમાં સાધારણ દ્રાવ્ય
સ્થિરતા	સહેજ હાઇગ્રોસ્કોપિક
બહુભાષી	થ્યુલિમ ox ક્સિડ, xy ક્સીડ દ થ્યુલિયમ, ઓક્સિડો ડેલ ટ્યૂલિયો
અન્ય નામ	થ્યુલિયમ (iii) ઓક્સાઇડ
HS	2846901992
છાપ	યુગ

થુલિયમ ox કસાઈડ, જેને થુલિયા પણ કહેવામાં આવે છે, તે સિલિકા આધારિત ફાઇબર એમ્પ્લીફાયર્સ માટે મહત્વપૂર્ણ ડોપન્ટ છે, અને સિરામિક્સ, ગ્લાસ, ફોસ્ફોર્સ, લેસરોમાં પણ વિશેષ ઉપયોગ કરે છે. કારણ કે થુલિયમ આધારિત લેસરોની તરંગલંબાઇ પેશીના સુપરફિસિયલ એબ્યુલેશન માટે ખૂબ કાર્યક્ષમ છે, જેમાં હવામાં અથવા પાણીમાં ન્યૂનતમ કોગ્યુલેશન depth ંડાઈ છે. આ થુલિયમ લેસરોને લેસર-આધારિત સર્જરી માટે આકર્ષક બનાવે છે. તેનો ઉપયોગ પોર્ટેબલ એક્સ-રે ઉપકરણોમાં પણ થઈ શકે છે જેનો પરમાણુ રિએક્ટરમાં કિરણોત્સર્ગ સ્ત્રોત તરીકે બોમ્બ ધડાકા કરવામાં આવ્યા છે.

વિશિષ્ટતા

ઉત્પાદન -સંહિતા	EP6N-TM2O3	EP5N-TM2O3	EP4N-TM2O3	EP3N-TM2O3
દરજ્જો	99.9999%	99.999%	99.99%	99.9%
રાસાયણિક -રચના
ટીએમ 2 ઓ 3 /ટ્રેઓ (% મિનિટ.)	99.9999	99.999	99.99	99.9
ટ્રેઓ (% મિનિટ.)	99.9	99	99	99
ઇગ્નીશન પર નુકસાન (% મહત્તમ.)	0.5	0.5	1	1
દુર્લભ પૃથ્વી અશુદ્ધિઓ	પીપીએમ મેક્સ.	પીપીએમ મેક્સ.	પીપીએમ મેક્સ.	% મહત્તમ.
Tb4o7/treo Dy2o3/treo હો 2 ઓ 3/ટ્રેઓ ER2O3/TREO Yb2o3/treo Lu2o3/treo Y2o3/treo	0.1 0.1 0.1 0.5 0.5 0.5 0.1	1 1 1 5 5 1 1	10 10 10 25 25 20 10	0.005 0.005 0.005 0.05 0.01 0.005 0.005
બિન-દુર્લભ પૃથ્વી અશુદ્ધિઓ	પીપીએમ મેક્સ.	પીપીએમ મેક્સ.	પીપીએમ મેક્સ.	% મહત્તમ.
Fe2o3 સિઓ 2 કાટ કણ સીએલ- Nાંકી દેવી Zno પી.બી.ઓ.	1 5 5 1 50 1 1 1	3 10 10 1 100 2 3 2	5 50 100 5 300 5 10 5	0.001 0.01 0.01 0.001 0.03 0.001 0.001 0.001

અશુદ્ધિઓ માટેની વિશેષ આવશ્યકતાઓ સાથે થુલિયમ ox કસાઈડ ગ્રાહકની આવશ્યકતાઓ અનુસાર કસ્ટમાઇઝ કરી શકાય છે. વધુ માહિતી માટે,કૃપા કરીને ક્લિક કરો!

નિયમ

થ્યુલિયમ ox કસાઈડ (ટીએમ 2 ઓ 3)એક સંયોજન છેદુર્લભ પૃથ્વીતત્ત્વગંદું. તેની એપ્લિકેશનો કેટલાક અન્યની તુલનામાં કંઈક અંશે મર્યાદિત છેદુર્લભ પૃથ્વી ઓક્સાઇડ, પરંતુ તે વિશિષ્ટ ક્ષેત્રોમાં ઉપયોગ શોધે છે:

1. ફાઇબર લેસરો અને એમ્પ્લીફાયર્સ:
થુલિયમ-ડોપ કરેલા ફાઇબર લેસરો અને થુલિયમ-ડોપ કરેલા ફાઇબર એમ્પ્લીફાયર્સ એ મહત્વપૂર્ણ કાર્યક્રમો છેથ્યુલીયમ ઓક્સાઇડ. આ લેસરો મધ્ય-ઇન્ફ્રારેડ તરંગલંબાઇ શ્રેણીમાં કાર્ય કરે છે, સામાન્ય રીતે 2 માઇક્રોમીટરની આસપાસ. તેનો ઉપયોગ વિવિધ હેતુઓ માટે થાય છે, જેમાં શામેલ છે: તબીબી અને કોસ્મેટિક પ્રક્રિયાઓ, જેમ કે લેસર સર્જરી અને ત્વચારોગવિજ્ .ાન સારવાર.
કટીંગ અને વેલ્ડીંગ સહિત સામગ્રી પ્રક્રિયા.
રિમોટ સેન્સિંગ, સ્પેક્ટ્રોસ્કોપી અને વાતાવરણીય મોનિટરિંગ.
વૈજ્ .ાનિક સંશોધન અને લશ્કરી કાર્યક્રમો.

2. હાઇ-ઇન્ડેક્સ ગ્લાસ:
થ્યુલીયમ ઓક્સાઇડખાસ કરીને ઇન્ફ્રારેડ ક્ષેત્રમાં, વિશિષ્ટ opt પ્ટિકલ એપ્લિકેશનો માટે હાઇ-ઇન્ડેક્સ ગ્લાસ ફોર્મ્યુલેશનમાં ઘટક તરીકે કેટલીકવાર ઉપયોગ થાય છે.

3. ન્યુટ્રોન રેડિયોગ્રાફી:
થુલિયમ -170, જે ઇરેડિએટીંગ દ્વારા મેળવી શકાય છેથ્યુલીયમ ઓક્સાઇડન્યુટ્રોન સાથે, industrial દ્યોગિક અને વૈજ્ .ાનિક કાર્યક્રમોમાં બિન-વિનાશક પરીક્ષણ અને ઇમેજિંગ માટે ન્યુટ્રોન રેડિયોગ્રાફીમાં વપરાય છે.

4. ડિસ્કિંટેલેશન ડિટેક્ટર્સ:
થ્યુલિયમ-ડોપેડ સિંટીલેશન મટિરિયલ્સનો ઉપયોગ ગામા-રે સ્પેક્ટ્રોસ્કોપી અને મેડિકલ ઇમેજિંગ માટે રેડિયેશન ડિટેક્ટર અને ઇમેજિંગ સિસ્ટમ્સમાં થઈ શકે છે.

થ્યુલીયમ ઓક્સાઇડફ્લોરોસન્ટ સામગ્રી, લેસર સામગ્રી, ગ્લાસ સિરામિક એડિટિવ્સ, વગેરેના ઉત્પાદન માટે પણ વપરાય છે.